Válvula de retenção tipo wafer lift

Válvula de retenção tipo wafer lift

Materiais:
Corpo: Ferro fundido, ferro dúctil, aço carbono, aço inoxidável ou liga de aço (a seleção do material depende das condições do meio, pressão e temperatura)
Disco: Aço inoxidável, bronze ou outros materiais resistentes à corrosão para melhor durabilidade
Assento: Aço inoxidável, bronze ou materiais de revestimento duro para vedação confiável e resistência ao desgaste
Mola (se aplicável): Aço inoxidável ou outras ligas resistentes à corrosão para projetos com mola

Tamanho (diâmetro nominal do tubo):
Tamanhos comuns: 1″, 2″, 3″, 4″, 6″, 8″, 10″, 12″ e maiores
Tamanhos personalizados estão disponíveis com base nos requisitos do sistema e nas especificações de instalação
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Válvula de retenção tipo wafer lift

 

Imagem do produto da válvula de retenção tipo wafer lift, projetada para controle de fluxo unidirecional com construção compacta em estilo waferVisão geral do produto

O Válvula de retenção tipo wafer lift é uma válvula compacta e de alto desempenho projetada para evitar fluxo reverso em tubulações. Apresentando um mecanismo de disco de elevação vertical, esta válvula garante vedação precisa e perda mínima de pressão. É ideal para mídias limpas, como água, vapor, óleo, ar e diversas soluções químicas.

Fabricado com materiais duráveis como WCB, CF8 e CF8M, e projetado para uso sob pressões variadas (1,0–4,0 MPa), a válvula oferece excelente resistência à corrosão, longa vida útil e resposta rápida em ambientes de baixa pressão.

Principais recursos:

  • Design de wafer que economiza espaço, fácil de instalar entre flanges.

  • Estrutura do disco de elevação com movimento vertical para fechamento rápido e desgaste mínimo.

  • Excelente desempenho de vedação em trechos de tubos horizontais ou verticais.

  • Amplas opções de materiais (WCB, SS304, SS316, CF8, CF8M, etc.) para diversas mídias.

  • Vedação resistente à abrasão com durabilidade comprovada de ciclo longo.

  •  Adaptável a ambientes de baixa pressão, especialmente onde o espaço e o peso são limitados.

 

Parâmetros técnicos:

Parâmetro Especificação
Pressão Nominal 1,0 MPa, 1,6 MPa, 2,5 MPa, 4,0 MPa
Pressão de teste (força) 1,5 MPa, 2,4 MPa, 2,75 MPa, 6,0 MPa
Pressão de Teste (Selo) 1,1 MPa, 1,7 MPa, 2,75 MPa, 4,4 MPa
Diâmetro Nominal DN15 a DN300
Médio Água, vapor, óleo, ar, ácidos fracos
Faixa de temperatura ≤425°C (WCB), ≤200°C (aço inoxidável)
Tipo de conexão Wafer entre flanges
Opções de materiais do corpo WCB, 2Cr13, 1Cr18Ni9Ti, CF8, CF8M, CF3M
Material do disco Aço inoxidável, liga de aço
Selagem Sede metálica ou macia (PTFE/Grafite)
Instantâneo da tabela dimensional:
Pressão Nominal (MPa) Diâmetro Nominal (DN) L (mm) 1,0 MPa (D) 1,6 MPa (D) 2,5 MPa (D) 4,0 MPa (D) Peso (kg)
15 25 48 48 48 48 0.3
20 31.5 58 58 58 58 0.6
25 35.5 68 68 68 68 0.8
32 40 80 80 80 80 1.6
40 50 90 90 90 90 1.6
50 60 100 100 100 100 2.5
65 65 125 125 125 125 3.4
80 71 143 143 143 143 5.1
100 80 153 153 153 153 6.2
150 100 160 160 160 160 9.6
200 150 250 250 250 250 13.8
250 200 327 327 340 340 18.6
300 250 377 377 385 400 27

Campos de aplicação:

  • Dutos Petroquímicos – Proteção contra refluxo para linhas de petróleo, gás e produtos químicos.

  • Caldeiras e Sistemas de Vapor – Isolamento confiável de vapor e proteção de pressão.

  • Estações de Tratamento de Água – Solução compacta para controle de vazão em sistemas pressurizados.

  • Centrais Elétricas – Garante fluxo unidirecional em circuitos de resfriamento de energia térmica e hidrelétrica.

  •  Sistemas HVAC Industriais – Evita o fluxo reverso em circuitos de água quente/fria.

Diagrama de estrutura da válvula de retenção do tipo Wafer Lift, mostrando o mecanismo de elevação e os componentes internos para controle de fluxo de fluido

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